キヤノンの最新ナノリソグラフィーシステムは、極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場を独占するオランダ企業ASMLと競合する。ASMLの装置は、最新のiPhoneに搭載されている最先端チップの製造に使用されている。
ASMLのEUV技術は、5nm以下の半導体製造における役割から、世界の大手チップメーカーの間でますます人気が高まっています。nmはチップ上のトランジスタ間の距離を表し、数値が小さいほどトランジスタの数が多くなり、チップの消費電力が増加します。
キヤノンによると、ナノリソグラフィー装置「FPA-1200NZ2C」は、5nmプロセス、さらには2nmプロセスに相当する半導体を製造できるという。iPhone 15 ProとPro Maxに搭載されているA17 Proチップは、3nmプロセスで製造されている。
世界最大の2つのチップファウンドリーであるTSMCとサムスンは、2025年までに2nmチップを生産することを目指しています。
リソグラフィー装置は、半導体に使われる材料にチップの設計図を印刷する上で重要な役割を果たします。ASMLのプリンターは紫外線を使用しますが、キヤノンの装置は特定の波長の光源を必要としないため、消費電力を抑えられます。
人工知能などの技術を支えるチップが世界中でさらに必要となる中、キヤノンのカメラ、光学機器、プリンターにおける強みは半導体業界で新たな用途を見出している。
ナノリソグラフィー (NIL) 技術は 2004 年に開発されたにもかかわらず、チップの印刷には EUV プリンターの方が優れていることもあり、高度なチップの世界ではまだ普及していません。
半導体は、AIや軍事用途などの分野での重要性から、米国と中国の間の技術戦争の中心にあります。
米国は輸出制限やその他の制裁措置を通じて、中国が半導体や主要な半導体製造装置にアクセスすることを阻止し、世界第2位の経済大国がすでに遅れをとっている技術においてさらに遅れをとらせようとしている。
オランダ政府は、最先端のチップの製造にEUVプリンターが必要であることから、ASMLによるEUVプリンターの中国への輸出を禁止しており、同国には販売していない。
しかし、キヤノンは現在、NILプリンターがチップメーカーによる2nm相当の半導体製造に役立つと主張しているため、同社も精査される可能性が高い。
キヤノンは中国への機械販売の可能性に関するCNBCの質問には回答しなかった。
中国はリソグラフィー装置企業の創設に尽力しており、国内産業の半導体生産能力向上を支援している。
ファーウェイは7nmチップを搭載した新型スマートフォンを発売したばかりだが、ASMLのEUVプリンターがなければこの進歩は実現困難だっただろう。このことはチップの出所に関する疑問を提起し、他の制裁措置につながる可能性もある。
ロイター通信は、米国が中国に対し、AIチップや半導体製造装置の販売に関する規制を更新する計画について警告したと報じた。
（CNBCによると）
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