Новый центр, названный EUV Accelerator, расположенный в Albany NanoTech Complex в Нью-Йорке, является первым научно-исследовательским и опытно-конструкторским центром, созданным под эгидой Закона CHIPS.

EUV-ускоритель, направленный на развитие полупроводниковой промышленности США, будет оснащен самым современным оборудованием для производства микросхем, что позволит исследователям отрасли сотрудничать с университетскими партнерами по обучению.

«Когда в Соединённых Штатах будут проводиться передовые исследования, мы сможем создавать самые передовые чипы в мире, что даст нам военное преимущество», — заявил сенатор Шумер. «Конечно, это также обеспечит американской экономике и бизнесу преимущество в виде передовых полупроводников».

sjjjjjjllll.jpeg
Страны стремятся найти способы устранить узкие места ASML. Фото: Bloomberg

Тем временем правительство США считает EUV важной технологией в производстве современных чипов и ставит перед собой цель освоить эту технологию.

Вашингтон также считает, что доступ к EUV, исследования и разработки необходимы для укрепления лидерства США, сокращения времени и затрат на создание прототипов, а также для создания и поддержания экосистемы рабочей силы в сфере полупроводников.

Ожидается, что после ввода в эксплуатацию ускоритель EUV сосредоточится на разработке усовершенствованного EUV с высокой числовой апертурой, а также на исследовании других технологий на основе EUV.

Ожидается, что центр предоставит членам Национального центра полупроводниковых технологий США (NTSC) и Natcast доступ к стандартному EUV NA в следующем году и к EUV с высокой NA в 2026 году.

«Запуск центра знаменует собой важную веху в обеспечении того, чтобы Соединенные Штаты оставались мировым лидером в области инноваций в области полупроводников», — заявила Джина Раймондо, министр торговли США.

В феврале администрация Байдена объявила о предоставлении гранта производителю микросхем GlobalFoundries для стимулирования производства в северных районах Олбани и Вермонта. В апреле США объявили о предоставлении Micron пакета в размере 6,1 млрд долларов для производства современных микросхем памяти.

Фотолитография — это процесс печати принципиальной схемы на светочувствительной поверхности кремниевой пластины путем направления светового луча на кремниевую пластину через стеклянную пластину, на которой нарисована принципиальная схема.

Для меньших схем требуются источники света с более короткой длиной волны, причем на сегодняшний день наиболее передовой разработкой является экстремальный ультрафиолет (EUV).

В последние годы ASML стала «монополистом» на рынке поставок фотолитографических машин, что превратило голландскую компанию в «узкое место» в цепочке поставок полупроводников.

TSMC и ASML могут дистанционно отключать оборудование для литья микросхем SCMP цитирует источники, которые утверждают, что у TSMC и ASML есть способы дистанционно отключать самые современные в мире машины для литья микросхем в случае геополитического кризиса.

Эти заводы также являются горячим «фронтом» между Вашингтоном и Пекином. В настоящее время ASML продаёт свой самый современный станок EUV High-NA за 380 миллионов долларов. Первый был поставлен Intel в начале этого года, а второй — «неустановленному покупателю».

Не только США, но и звенья глобальной цепочки поставок полупроводников пытаются самостоятельно производить EUV.

Ранее в августе японские исследователи (OIST) заявили, что им удалось успешно разработать более простую и дешёвую установку для литографии в сверхвысокочастотном ультрафиолете (EUV). Более того, это устройство имеет более простую конструкцию, чем традиционная система ASML, например, в нём используется всего два оптических зеркала вместо стандартных шести.

Новая EUV-машина, имеющая более простую конструкцию и более низкую стоимость по сравнению с оборудованием ASML, при условии ее массового производства может кардинально изменить отрасль литья микросхем и тем самым оказать влияние на всю полупроводниковую промышленность.

Кроме того, одним из преимуществ машины является повышенная надёжность и снижение сложности обслуживания. Значительное снижение энергопотребления также является сильной стороной новой системы.

Благодаря оптимизированному пути распространения света система работает с источником EUV-излучения мощностью всего 20 Вт, что обеспечивает общую потребляемую мощность менее 100 кВт. Для сравнения, традиционные EUV-системы обычно потребляют более 1 МВт мощности.

OIST подала патентную заявку на эту технологию и заявила, что продолжит разработку литографических установок EUV для практического применения. Ожидается, что мировой рынок EUV-систем вырастет с 8,9 млрд долларов США в 2024 году до 17,4 млрд долларов США в 2030 году.

(По данным Fortune, Bloomberg)