មជ្ឈមណ្ឌលថ្មីនេះត្រូវបានគេហៅថា EUV Accelerator ដែលមានទីតាំងនៅ Albany NanoTech Complex ក្នុងទីក្រុងញូវយ៉ក គឺជាកន្លែងស្រាវជ្រាវ និងអភិវឌ្ឍន៍ (R&D) ដំបូងបង្អស់ដែលត្រូវបានបង្កើតឡើងក្រោមការឧបត្ថម្ភនៃច្បាប់ CHIPS ។

ក្នុងគោលបំណងជំរុញឧស្សាហកម្ម semiconductor របស់សហរដ្ឋអាមេរិក EUV Accelerator នឹងត្រូវបានបំពាក់ដោយម៉ាស៊ីនផលិតបន្ទះឈីបទំនើប ដែលអនុញ្ញាតឱ្យអ្នកស្រាវជ្រាវក្នុងឧស្សាហកម្មសហការជាមួយដៃគូបណ្តុះបណ្តាលនៅសាកលវិទ្យាល័យ។

សមាជិកព្រឹទ្ធសភា Schumer បាននិយាយថា "នៅពេលដែលការស្រាវជ្រាវកម្រិតខ្ពស់ត្រូវបានធ្វើនៅក្នុងសហរដ្ឋអាមេរិក យើងនឹងអាចបង្កើតបន្ទះឈីបកម្រិតខ្ពស់បំផុតនៅក្នុងពិភពលោក ដោយផ្តល់ឱ្យយើងនូវអត្ថប្រយោជន៍ ខាងយោធា " ។ "ជាការពិតណាស់ វាក៏ធានាបានដែរថា សេដ្ឋកិច្ច និងអាជីវកម្មរបស់អាមេរិក មានអត្ថប្រយោជន៍ពីឧបករណ៍អេឡិចត្រូនិកកម្រិតខ្ពស់។"

sjjjjjjllll.jpeg
បណ្តាប្រទេសនានាកំពុងប្រជែងគ្នាដើម្បីស្វែងរកវិធីដើម្បីទប់ស្កាត់ការរាំងស្ទះរបស់ ASML ។ រូបថត៖ Bloomberg

ទន្ទឹមនឹងនេះ រដ្ឋាភិបាលសហរដ្ឋអាមេរិកបានចាត់ទុក EUV ជាបច្ចេកវិជ្ជាសំខាន់មួយក្នុងការផលិតបន្ទះឈីបកម្រិតខ្ពស់ និងមានគោលបំណងធ្វើជាម្ចាស់នៃបច្ចេកវិទ្យានេះ។

វ៉ាស៊ីនតោនក៏ជឿជាក់ផងដែរថាការចូលប្រើ EUV ការស្រាវជ្រាវ និងការអភិវឌ្ឍន៍គឺចាំបាច់ដើម្បីពង្រីកភាពជាអ្នកដឹកនាំរបស់សហរដ្ឋអាមេរិក កាត់បន្ថយពេលវេលា និងការចំណាយលើការផលិតគំរូ ព្រមទាំងបង្កើត និងទ្រទ្រង់ប្រព័ន្ធអេកូនៃកម្លាំងពលកម្ម semiconductor ។

នៅពេលដែលដំណើរការ EUV Accelerator ត្រូវបានគេរំពឹងថានឹងផ្តោតលើការបង្កើត EUV ដែលមានជំរៅលេខខ្ពស់កម្រិតខ្ពស់ ក៏ដូចជាការស្រាវជ្រាវបច្ចេកវិទ្យាដែលមានមូលដ្ឋានលើ EUV ផ្សេងទៀត។

មជ្ឈមណ្ឌលនេះត្រូវបានគេរំពឹងថានឹងផ្តល់នូវការចូលទៅកាន់ស្តង់ដារ EUV NA នៅឆ្នាំក្រោយ និងកម្រិតខ្ពស់ NA EUV ក្នុងឆ្នាំ 2026 ដល់សមាជិកនៃមជ្ឈមណ្ឌលបច្ចេកវិទ្យា Semiconductor ជាតិអាមេរិក (NTSC) និង Natcast ។

លោក Gina Raimondo រដ្ឋមន្ត្រីក្រសួងពាណិជ្ជកម្មអាមេរិកបាននិយាយថា "ការបើកដំណើរការមជ្ឈមណ្ឌលនេះគឺជាព្រឹត្តិការណ៍ដ៏សំខាន់មួយក្នុងការធានាថាសហរដ្ឋអាមេរិកនៅតែជាប្រទេសនាំមុខគេលើពិភពលោកក្នុងការច្នៃប្រឌិត semiconductor" ។

កាលពីខែកុម្ភៈ រដ្ឋបាល Biden បានប្រកាសផ្តល់ជំនួយដល់ក្រុមហ៊ុនផលិតបន្ទះឈីប GlobalFoundries ដើម្បីជំរុញការផលិតនៅភាគខាងជើង Albany និង Vermont ។ កាលពីខែមេសា សហរដ្ឋអាមេរិកបានប្រកាសកញ្ចប់ថវិកាចំនួន 6.1 ពាន់លានដុល្លារដល់ក្រុមហ៊ុន Micron ដើម្បីផលិតបន្ទះឈីបអង្គចងចាំកម្រិតខ្ពស់។

Photolithography គឺជាដំណើរការនៃការបោះពុម្ពដ្យាក្រាមសៀគ្វីទៅលើផ្ទៃដែលមានពន្លឺនៃស៊ីលីកុន wafer ដោយការបញ្ចាំងពន្លឺទៅលើស៊ីលីកុន wafer តាមរយៈចានកញ្ចក់ដែលដ្យាក្រាមសៀគ្វីត្រូវបានគូរ។

សៀគ្វីតូចៗត្រូវការប្រភពពន្លឺដែលមានរលកខ្លីជាង ដោយអ៊ុលត្រាវីយូឡេខ្លាំង (EUV) គឺជាការអភិវឌ្ឍន៍ទំនើបបំផុតនាពេលបច្ចុប្បន្ននេះ។

ក្នុងប៉ុន្មានឆ្នាំថ្មីៗនេះ ASML គឺជា "ផ្តាច់មុខ" ក្នុងការផ្តល់ម៉ាស៊ីន photolithography ដោយបង្វែរក្រុមហ៊ុនហូឡង់ទៅជា "bottleneck" នៅក្នុងខ្សែសង្វាក់ផ្គត់ផ្គង់ semiconductor ។

TSMC និង ASML អាចបិទឧបករណ៍ផលិតបន្ទះឈីបពីចម្ងាយ SCMP ប្រភពដែលបានដកស្រង់ដោយនិយាយថា TSMC និង ASML មានវិធីដើម្បីបិទម៉ាស៊ីនផលិតបន្ទះឈីបទំនើបបំផុតរបស់ពិភពលោកពីចម្ងាយក្នុងករណីមានវិបត្តិ ភូមិសាស្ត្រនយោបាយ ។

រោងសិប្បកម្មទាំងនេះក៏ជា "ផ្នែកខាងមុខ" ដ៏ក្តៅគគុករវាងទីក្រុងវ៉ាស៊ីនតោន និងទីក្រុងប៉េកាំងផងដែរ។ បច្ចុប្បន្ន ASML លក់ម៉ាស៊ីន EUV High-NA ទំនើបបំផុតរបស់ខ្លួនក្នុងតម្លៃ 380 លានដុល្លារ ដោយម៉ាស៊ីនទីមួយបានបញ្ជូនទៅ Intel កាលពីដើមឆ្នាំនេះ និងទីពីរទៅ "អតិថិជនមិនស្គាល់អត្តសញ្ញាណ" ។

មិន​ត្រឹម​តែ​សហរដ្ឋ​អាមេរិក​ប៉ុណ្ណោះ​ទេ ប៉ុន្តែ​ក៏​មាន​ទំនាក់ទំនង​ក្នុង​ខ្សែ​សង្វាក់​ផ្គត់ផ្គង់​គ្រឿង​អេឡិចត្រូនិក​ពិភពលោក​កំពុង​ព្យាយាម​ផលិត EUV ខ្លួន​ឯង។

កាលពីដើមខែសីហា អ្នកស្រាវជ្រាវជប៉ុន (OIST) បាននិយាយថា ពួកគេបានបង្កើតដោយជោគជ័យនូវម៉ាស៊ីន lithography EUV ដែលមានលក្ខណៈសាមញ្ញ និងថោកជាង។ មិនត្រឹមតែប៉ុណ្ណោះ ឧបករណ៍នេះក៏មានការរចនាដ៏សាមញ្ញជាងប្រព័ន្ធធម្មតារបស់ ASML ដូចជាកាត់បន្ថយវាមកត្រឹមកញ្ចក់អុបទិកពីរ ជំនួសឲ្យ 6 លំនាំដើម។

ជាមួយនឹងរចនាសម្ព័ន្ធដ៏សាមញ្ញ និងមានតម្លៃថោកជាងឧបករណ៍របស់ ASML ម៉ាស៊ីន EUV ថ្មី ប្រសិនបើផលិតបានច្រើន អាចកែប្រែឧស្សាហកម្មផលិតបន្ទះឈីបឡើងវិញ ដោយហេតុនេះប៉ះពាល់ដល់ឧស្សាហកម្ម semiconductor ទាំងមូល។

លើសពីនេះទៀតគុណសម្បត្តិមួយក្នុងចំណោមគុណសម្បត្តិរបស់ម៉ាស៊ីនគឺការបង្កើនភាពជឿជាក់និងកាត់បន្ថយភាពស្មុគស្មាញក្នុងការថែទាំ។ ការថយចុះគួរឱ្យកត់សម្គាល់នៃការប្រើប្រាស់ថាមពលក៏ជាចំណុចខ្លាំងនៃប្រព័ន្ធថ្មីផងដែរ។

សូមអរគុណដល់ផ្លូវពន្លឺដែលបានធ្វើឱ្យប្រសើរឡើង ប្រព័ន្ធដំណើរការជាមួយប្រភពពន្លឺ EUV ត្រឹមតែ 20 W ដែលបណ្តាលឱ្យមានការប្រើប្រាស់ថាមពលសរុបតិចជាង 100 kW ។ នៅក្នុងការប្រៀបធៀបប្រព័ន្ធ EUV ធម្មតាជាធម្មតាត្រូវការថាមពលលើសពី 1 MW ។

OIST បានដាក់ពាក្យសុំប៉ាតង់សម្រាប់បច្ចេកវិទ្យានេះ ហើយបាននិយាយថា ខ្លួននឹងបន្តអភិវឌ្ឍម៉ាស៊ីន lithography EUV សម្រាប់ការអនុវត្តជាក់ស្តែង។ ទីផ្សារម៉ាស៊ីន EUV សកលត្រូវបានគេរំពឹងថានឹងកើនឡើងពី 8.9 ពាន់លានដុល្លារក្នុងឆ្នាំ 2024 ដល់ 17.4 ពាន់លានដុល្លារក្នុងឆ្នាំ 2030។

(យោងទៅតាម Fortune, Bloomberg)